网易新闻2025-04-29 00:00:00...16上选择不采用High-NA EUV光刻技术，但是到了A14会选择加入。 据Bits and Chips报道，台积电已经决定在A14制程工艺上不引入High-NA EUV光刻技术，仍然坚持使用原有的EUV光刻设备。台积电相信，即便没有...
- 网易新闻2025-03-12 00:00:00
...半导体芯片研究设施，共同努力改进EUV光刻制造技术，同时三星还获得了High-NA EUV光刻设备技术的优先权。不过去年三星DS（设备解决方案）部门更换新负责人，审查正在进行的项目和投资，随即传出可能减少High-NA EUV光刻机的采购数...
- ZOL中关村在线2025-03-11 00:00:00
...部分制造流程中使用了极紫外光刻（EUV）设备，公司计划通过减少EUV技术的应用，加速尖端DRAM产品的量产进程。报道指出，美光选择降低对EUV技术的依赖，转而更多采用成熟的氩氟浸没式光刻（ArFi）工艺。根据ASML提供的数据，下一代深紫外...
- 芯智讯2025-02-27 00:00:00
...伴和精选客户运送其利用极紫外光（EUV）光刻技术的1γ （1-gamma）制程的第六代 （10nm 级） DRAM 节点的 DDR5 内存样品的公司，该内存专为下一代 CPU 而设计。美光表示，这一 1γ DRAM 里程碑建立在美光之前的 ...
- 网易新闻2025-02-01 00:00:00
...SML已经确认，即将出货最新款的EUV光刻机EXE:5200，相比上代来说，表现更加强悍，当然不会卖给中国厂商。按照官方的说法，EXE:5200是现有初代High NA EUV光刻机EXE:5000的改进款，其将拥有更高的晶圆吞吐量（EXE...
- 网易新闻2024-12-19 00:00:00
...。这也是日本境内首次引入量产用 EUV 光刻设备。Rapidus 首席执行官、日本政府代表、北海道及千岁市地方政府代表、ASML 高管、荷兰驻日本大使等相关人士出席了在北海道新千岁机场举行的纪念仪式。 NXE:3800E 是 ASML ...
- 网易新闻2024-12-19 00:00:00
...已成功接收其订购的首台ASML EUV光刻机，这是日本境内首次引入量产用EUV光刻设备。Rapidus也成为日本首家拥有EUV光刻机的公司，由于EUV系统体积庞大，完整设备重达71吨，将分四阶段进行安装，预计本月底在晶圆厂内完成。Rapid...
- 砍柴网2024-12-02 00:00:00
...产品：世界首型 High NA EUV 光刻系统 TWINSCAN EXE:5000 的乐高模型套装。TWINSCAN EXE:5000 光刻机是首款采用 0.55NA 数值孔径的光刻机，其分辨率达 8nm，成像对比度较此前的 NXE 系列...
- 芯智讯2024-10-19 00:00:00
...点增长放缓，对于光刻系统（特别是EUV系统）需求时间推迟，而来自存储制程需求增加也有限。虽然ASML并没有公布来自哪些客户的光刻机需求减少，但是三星似乎就是其中一家。三名熟悉三星计划的人士告诉路透社，三星推迟了为其在建泰勒晶圆厂购买 ASM...
- 三星宣布完成5纳米EUV工艺研发
Samsung announced the completion of 5-nanometer EUV process development
IT之家2019-04-16 10:58:50...称，三星电子已经成功完成5nm EUV开发，以实现芯片的更大面积扩展和带来超低功耗。三星电子称，其5纳米（nm）FinFET工艺技术的开发已经完成，现在可以为客户提供样品。通过在其基于极紫外（EUV）的工艺产品中添加另一个尖端节点，三星称再...
